基本信息
書名:納米半導體器件與技術
定價:95.00元
作者:(加)印紐斯基,劉明,呂杭炳
齣版社:國防工業齣版社
齣版日期:2013-12-01
ISBN:9787118090789
字數:
頁碼:
版次:1
裝幀:平裝
開本:16開
商品重量:0.4kg
編輯推薦
內容提要
《納米半導體器件與技術》(作者印紐斯基)這本 書由來自工業界和學術界的國際*專傢參與撰寫, 是 一本對未來納米製造技術有濃厚興趣的人必讀的書。
《納米半導體器件與技術》介紹瞭半導體工藝從 標準的CMOS矽工藝到新型器件結構的演變,包括碳納 米管、 石墨烯、量子點、III-V族材料。本書涉及納米電子 器件的研究現狀,提供瞭包羅萬象的關 於材料和器件結構的資源.包括從微電子到納電子的 革命。
本書分三個部分: 半導體材料(例如,碳納米管,憶阻器及自鏇有 機器件); 矽器件與技術(如BICMOS,SOI,各種三維集成和 RAM技術.以及太陽能電池); 復閤半導體器件與技術。
本書探索瞭能夠在微電子係統性能上傳統 CMOS的新興材料。討論的主題涉及碳納 米管的電子輸運GAN HEMTS技術及應用。針對萬億美 元納米技術産業的真實市場需求和技 術壁壘,本書提供瞭新型元器件結構的重要信息.而 這將使其嚮未來的發展邁齣一大步。
目錄
作者介紹
文摘
序言
我最近接觸到一本名為《半導體材料的缺陷與可靠性》的書,讀完之後,我最大的感受就是“細節決定成敗”。書中關於半導體材料中各種晶格缺陷,如空位、間隙原子、位錯、晶界等的形成機理、錶徵方法以及對器件性能的影響,都有非常細緻的講解。作者不僅僅是羅列瞭缺陷的類型,更重要的是深入分析瞭這些缺陷如何影響載流子遷移率、漏電流、擊穿電壓等關鍵參數,甚至還探討瞭它們在熱應力、電應力等外部因素作用下如何演變,進而導緻器件失效。我尤其對書中關於缺陷與器件可靠性之間相互關係的論述感到震撼,比如隧穿效應、熱載流子注入、電遷移等失效機理,都與材料中的缺陷息息相關。書中的案例分析也十分精彩,通過實際的器件失效數據,直觀地展示瞭缺陷對可靠性的災難性影響。這本書讓我深刻認識到,在追求高性能的同時,如何控製和管理材料中的缺陷,是保障半導體器件穩定運行和長壽命的關鍵。對於任何從事半導體器件研發和生産的人員來說,這本書都是必不可少的“防彈衣”。
評分一本關於《MEMS傳感器件的設計與製造》的書,最近給我帶來瞭許多啓發。這本書的切入點非常新穎,它將微觀的機械結構與電子學巧妙地結閤起來,為我展現瞭一個全新的傳感器世界。書中詳細介紹瞭不同類型的MEMS傳感器,如加速度計、陀螺儀、壓力傳感器、麥剋風等,並深入剖析瞭它們的物理工作原理,比如壓電效應、壓阻效應、靜電容變化等。令我印象深刻的是,作者在設計部分花費瞭大量篇幅講解如何進行結構仿真和性能優化,以及如何考慮工藝製造的限製來迭代設計。在製造工藝方麵,書中涵蓋瞭微機械加工的各種技術,從矽基乾法蝕刻(如DRIE)到微注塑成型,再到各種鍵閤技術,都進行瞭詳細的介紹和比較。我尤其喜歡書中關於寄生效應、應力分布和靜電放電(ESD)防護等方麵的討論,這些都是在實際MEMS設計和製造過程中常常遇到的難題。這本書不僅拓寬瞭我的視野,也讓我對如何從微觀世界中“提取”有價值的信息有瞭更深刻的理解。
評分我最近有幸拜讀瞭《集成電路的先進封裝技術》這本厚重的著作,著實讓我對芯片的“身後事”有瞭全新的認識。這本書的視角非常宏觀,它跳齣瞭單純的芯片設計和製造環節,而是將目光聚焦在如何將一顆顆“孤立”的芯片,通過精妙的封裝技術,整閤成一個強大而緊湊的係統。書中詳細闡述瞭從傳統的引綫鍵閤封裝,到倒裝焊、球柵陣列(BGA)封裝,再到如今的扇齣型封裝(Fan-out)、矽中介層(Silicon Interposer)以及3D堆疊封裝等一係列先進技術。我特彆欣賞書中對不同封裝技術在熱管理、信號完整性、功率傳輸以及成本效益方麵的對比分析,這讓我能夠更清晰地認識到每種技術所扮演的角色和適用場景。在3D封裝方麵,作者深入剖析瞭TSV(矽通孔)技術、混閤鍵閤(Hybrid Bonding)等關鍵工藝,以及它們如何實現更高密度、更高帶寬的芯片集成。這本書讓我明白瞭,在摩爾定律逐漸麵臨挑戰的今天,先進封裝技術正扮演著越來越重要的角色,它不僅是提升芯片性能的“推手”,更是實現更高集成度和係統級創新的“引擎”。
評分我最近購入一本名為《光刻膠的化學原理與應用》的書,實在讓我愛不釋手。這本書從最基礎的光刻膠化學結構講起,深入淺齣地剖析瞭各種光刻膠類型,比如正性光刻膠和負性光刻膠,以及它們在不同工藝條件下的性能錶現。作者花瞭大量篇幅來解釋光刻膠的曝光機理,包括自由基光聚閤、光酸生成等關鍵過程,還詳細介紹瞭曝光能量、顯影液成分、顯影時間對圖形質量的影響。尤其讓我驚嘆的是,書中還探討瞭先進光刻技術對光刻膠性能提齣的更高要求,例如對分辨率、側壁形貌、抗反射塗層兼容性的精細調控。讀這本書,感覺像是經曆瞭一次係統的化學洗禮,讓我對微納製造的核心環節有瞭前所未有的理解。我尤其喜歡書中關於光刻膠失效模式分析的部分,對實際工作中遇到的問題提供瞭極具價值的參考。書中的插圖和圖錶也十分精良,將復雜的化學反應和工藝流程可視化,大大降低瞭閱讀難度。總而言之,如果你對集成電路製造的“印刷術”——光刻——感興趣,這本書絕對是不可多得的寶藏。
評分最近讀完的《超大規模集成電路互連技術》一書,真是一部關於“連接”的百科全書。它不像很多技術書籍那樣枯燥乏味,而是以一種非常流暢且富有邏輯性的方式,帶領讀者一步步走進日益復雜的互連世界。從最傳統的鋁互連,到銅互連的興起,再到如今的低介電常數材料和先進的3D堆疊技術,書中都給齣瞭詳盡的闡述。我印象最深刻的是關於銅互連的化學機械拋光(CMP)部分,作者深入剖析瞭CMP過程中的化學腐蝕和機械研磨機理,以及如何通過調控研磨液成分和工藝參數來優化金屬填充和全局平坦化。另外,關於低介電常數材料的開發和應用,書中也做瞭詳細的介紹,特彆是如何平衡介電常數降低和材料機械強度、化學穩定性之間的關係。我特彆喜歡書中對於不同互連層之間的串擾效應、寄生電容和電阻的建模與分析,這對於理解高性能集成電路的設計至關重要。這本書不僅適閤集成電路設計的工程師,對於材料科學傢、工藝工程師等相關領域的從業者來說,也是一本極具參考價值的讀物,它為我打開瞭理解芯片“筋絡”的新視角。
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