书名:超大规模集成电路——基础 设计 制造工艺
定价:42.00元
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作者:(日)电子信息通信学会 组编,岩田 穆,角南英
出版社:科学出版社
出版日期:2008-01-01
ISBN:9787030202789
字数:
页码:
版次:1
装帧:平装
开本:16开
商品重量:0.422kg
本书共分为上下两篇,上篇为基础设计篇,主要介绍VLSI的特征及作用、VLSI的设计、逻辑电路、逻辑VLSI、半导体存储器、模拟VLSI、VLSI的设计法与构成法、VLSI的实验等;下篇为制造工艺篇,主要介绍集成工艺、平板印刷、刻蚀、氧化、不纯物导入、绝缘膜堆积、电极与配线等。
本书内容丰富,条理清晰,实用性强,既可供超大规模集成电路研发和设计人员及半导体生产单位管理人员使用,也可作为各院校集成电路相关专业的本科生、研究生及教师的参考书。
上篇 基础与设计
章 VLSl的特征及任务
1.1 VLSl的概念与基本技术
1.1.1 VLSl的基本技术与发明
1.1.2 学科体系
1.2 VLSl的种类
1.2.1 按功能分类
1.2.2 按器件分类
1.3 半导体技术路线图
1.4 对系统的影响
1.4.1 计算机系统
1.4.2 通信网络系统
1.4.3 数字家电系统
第2章 VLSl的器件
2.1 VLSl的构成要素
2.2 MOS晶体管
2.2.1 MOS的基本构造
2.2.2 MOS的工作原理与工作区域
2.2.3 MOS的电流电压特性
2.2.4 MOS的器件模型
2.2.5 MOS的等效电路模型
2.3 二极管
2.4 电阻
2.5 电容
2.6 电感
2.7 器件隔离
2.8 布线
2.8.1 多层布线
2.8.2 布线电容
2.9 VLSl技术的比例缩小法则
第3章 逻辑电路
3.1 CMOS逻辑电路
3.1.1 倒相器
3.1.2 NAND门
3.1.3 NOR门
3.1.4 传输门
3.1.5 选择器
3.1.6 异或门
3.1.7 CMOS复合门
3.1.8 时钟CMOS逻辑电路
3.1.9 动态CMOS逻辑电路
3.1.10 电流型逻辑电路
3.2 CMOS逻辑电路的工作速度
3.2.1 门延迟时间
3.2.2 布线的延迟时间
3.3 CMOS逻辑电路的功率消耗
3.3.1 CMOS逻辑电路消耗功率的因素
3.3.2 CMOS-VLSl的功率消耗
3.4 控制电路
3.4.1 寄存器
3.4.2 同步系统
3.4.3 计数器
第4章 逻辑VLSl
4.1 数字运算电路
4.1.1 加法运算
4.1.2 减法电路
4.1.3 乘法运算
4.2 时钟的发生与分配
……
第5章 半导体存储器
第6章 模拟VLSI
第7章 无线通信电路
第8章 VLSI的设计方法及构成方法
第9章 VLSI的测试
下篇 制造工艺
0章 LSI的制造工艺及其课题
1章 集成化工艺
2章 平版印刷术
3章 腐蚀
4章 氧化
5章 掺杂
6章 淀积绝缘膜
7章 电极和布线
8章 后工序——封装
引用参考文献
我买这本书的初衷是想快速了解一下“超大规模集成电路”这个概念的全貌,结果发现我低估了它的深度。这本书的篇幅和内容密度,完全可以作为研究生阶段的教材来使用,甚至对于一些资深工程师来说,它也是一本极佳的参考手册。我特别关注了其中关于电路可靠性和测试性的章节。在当今追求高密度、高速度的芯片设计中,如何保证数亿晶体管在各种温度和电压波动下稳定工作,是一个巨大的挑战。作者在这方面给出的分析非常到位,涉及到了各种失效模式,比如电迁移、热点效应等等。它不仅仅告诉我们“要做什么”,更重要的是“为什么要做”,背后的物理机制解释得非常透彻。我感觉这本书的价值在于它的“全面性”和“深度”的完美平衡。它不像某些市场上的快速入门指南那样肤浅,也不像纯理论书籍那样高不可攀,它恰好处于一个能让你真正掌握行业核心竞争力的位置。每次合上书本,都有一种知识被极大强化的满足感。
评分这本书的文字风格非常严谨,带着一种学术论文特有的精确性,几乎找不到可以随意跳跃阅读的部分。对于我这种习惯于快速浏览、抓取关键信息的读者来说,这确实是一个挑战。我发现自己必须一个词一个词地去推敲,才能确保没有遗漏任何一个细微的条件或假设。例如,在讨论互连线延迟模型时,它会详细分析不同串扰模型对最终时序计算的影响,这种细致入微的讨论,虽然增加了阅读的难度,但同时也极大地提高了最终结果的准确性。我特别喜欢它在引入新概念时,会先回顾前置知识,这对于保持思维的连贯性非常重要。这本书更像是一位资深教授的私人讲座笔记,他希望你不仅学会使用工具,更要理解工具背后的数学原理。如果把它当作一本工具书来用,你会发现它的索引系统非常完善,任何关于特定工艺参数或者设计规则的问题,都能在书中找到源头活水般的解释。
评分读完这本书,我最大的感受是,我们现在使用的那些“黑箱”芯片,背后是多么庞大而精密的工程体系在支撑。这本书给我最直观的冲击,来自于对“规模”的理解。它不仅仅是关于“大”,而是关于如何管理、优化和验证一个包含数十亿个逻辑门的复杂系统。作者在描述大规模设计流程时,用了大量的篇幅来讨论设计自动化(EDA)工具的角色和局限性。我印象深刻的是关于功耗管理的讨论,它不再是简单地降低电压,而是涉及到多层次的电压域划分、时钟门控等复杂的时空管理策略。这种系统级的思考方式,远超出了我过去对“电路设计”的狭隘理解。这本书成功地将电子工程的理论深度、材料科学的精妙以及计算机科学的优化算法融合在了一起,展现了现代集成电路领域真正的跨学科本质。它不仅是技术书籍,更像是一部关于现代工程美学的作品,其复杂性和结构美让人叹为观止。
评分这本关于超大规模集成电路的巨著,光是厚度就让人望而生畏,可想而知内容之翔实与深刻。我花了整整一个暑假才啃下这本书的前半部分,感觉就像是走进了半导体世界的一座宏伟迷宫。它不仅仅是简单罗列公式和工艺流程,更重要的是它构建了一套完整的知识体系,让你能从最基本的物理原理出发,逐步理解现代芯片是如何被设计、制造出来的。特别是关于CMOS器件的物理基础那几章,作者没有回避那些复杂的半导体物理方程,而是用一种循序渐进的方式,将抽象的概念具体化。我尤其欣赏它在设计流程中的叙述,从逻辑综合到版图设计,每一个环节都讲得条理清晰,让人有一种“原来如此”的豁然开朗感。对于一个想从底层逻辑深入理解芯片制造的工程师来说,这本书无疑是提供了坚实的理论基石,而不是那种只停留在应用层面的浅尝辄止的资料。它要求读者有耐心和一定的数理基础,但一旦掌握了书中的核心思想,再去看任何最新的芯片技术报道,都会感觉豁然开朗,因为你知道它们背后的“内功”是什么。这本书更像是一部武功秘籍,你需要勤加练习才能领悟其中精髓。
评分说实话,我对这本书的某些章节感觉像是进行了一场智力上的极限马拉松。特别是涉及到制造工艺的那部分,那些关于光刻、刻蚀、薄膜沉积的技术细节,描述得极其细致入微,几乎到了吹毛求疵的地步。我个人更偏爱设计理论,但当我翻到薄膜生长那一章时,还是被深深地震撼了。它没有用过于简化的模型来糊弄读者,而是直接展示了实际晶圆厂中可能遇到的各种工艺窗口的挑战。比如,如何精确控制薄膜的厚度和均匀性,以及如何处理不同材料界面的问题。这让我意识到,设计再精妙的电路,如果工艺跟不上,最终也只能是纸上谈兵。这本书的难得之处在于,它成功地架设了“设计”与“制造”之间那座常常令人感到沟通障碍的桥梁。我感觉自己像是从一个理论物理学家,瞬间变成了一个需要在无尘室里操作精密仪器的工程师,视角转换得非常彻底。阅读过程中,我不得不频繁地停下来,查阅大量的相关背景资料,但这反而加深了我对整个半导体产业链复杂性的理解。
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