國外電子與通信教材係列·芯片製造：半導體工藝製程實用教程（第六版） [Microchip Fabrication: A Practical Guide to Semiconductor Process epub pdf mobi txt 電子書下載 2024

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[美] Peter Van Zant 著，韓鄭生譯

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發表於2024-11-25

商品介绍

齣版社：電子工業齣版社

ISBN：9787121243363

版次：6

商品編碼：11622793

包裝：平裝

叢書名：國外電子與通信教材係列

外文名稱：Microchip Fabrication: A Practical Guide to Semiconductor Processing，Sixth Edition

開本：16開

齣版時間：20

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書籍描述

編輯推薦

　　《國外電子與通信教材係列·芯片製造：半導體工藝製程實用教程（第六版）》是一本介紹半導體集成電路和器件製造技術的專業書籍，第六版內容全麵、工藝先進，在半導體領域享有很高的聲譽。

內容簡介

　　《國外電子與通信教材係列·芯片製造：半導體工藝製程實用教程（第六版）》是一本介紹半導體集成電路和器件製造技術的專業書籍，在半導體領域享有很高的聲譽。本書的討論範圍包括半導體工藝的每個階段：從原材料的製備到封裝、測試和成品運輸，以及傳統的和現代的工藝。《國外電子與通信教材係列·芯片製造：半導體工藝製程實用教程（第六版）》提供瞭詳細的插圖和實例，每章包含迴顧總結和習題，並輔以豐富的術語錶。第六版修訂瞭微芯片製造領域的新進展，討論瞭用於圖形化、摻雜和薄膜步驟的先進工藝和尖端技術，使隱含在復雜的現代半導體製造材料與工藝中的物理、化學和電子的基礎信息更易理解。《國外電子與通信教材係列·芯片製造：半導體工藝製程實用教程（第六版）》的主要特點是避開瞭復雜的數學問題介紹工藝技術內容，並加入瞭半導體業界的新成果，可以使讀者瞭解工藝技術發展的趨勢。

作者簡介

　　韓鄭生，男，中科院微電子研究所研究員/教授，博士生導師，研究方嚮為微電子學與固體電子學，從事集成電路工藝技術、電路設計方麵的工作，曾任高級工程師，光刻工藝負責人，研究室副主任兼任測試工藝負責人，矽工程中心産品部主任，項目/課題負責人。國傢特殊津貼獲得者。國傢自然基金麵上項目評審專傢。

內頁插圖

第1章半導體産業
1．1 引言
1．2 一個産業的誕生
1．3 固態時代
1．4 集成電路
1．5 工藝和産品趨勢
1．6 半導體産業的構成
1．7 生産階段
1．8 微芯片製造過程發展的
60年
1．9 納米時代
習題
參考文獻

第2章半導體材料和化學品的特性
2．1 引言
2．2 原子結構
2．3 元素周期錶
2．4 電傳導
2．5 絕緣體和電容器
2．6 本徵半導體
2．7 摻雜半導體
2．8 電子和空穴傳導
2．9 半導體生産材料
2．10 半導體化閤物
2．11 鍺化矽
2．12 襯底工程
2．13 鐵電材料
2．14 金剛石半導體
2．15 工藝化學品
2．16 物質的狀態
2．17 物質的性質
2．18 壓力和真空
2．19 酸、堿和溶劑
2．20 化學純化和清洗
習題
參考文獻

第3章晶體生長與矽晶圓製備
3．1 引言
3．2 半導體矽製備
3．3 晶體材料
3．4 晶體定嚮
3．5 晶體生長
3．6 晶體和晶圓質量
3．7 晶圓準備
3．8 切片
3．9 晶圓刻號
3．10 磨片
3．11 化學機械拋光
3．12 背麵處理
3．13 雙麵拋光
3．14 邊緣倒角和拋光
3．15 晶圓評估
3．16 氧化
3．17 包裝
3．18 工程化晶圓（襯底）
習題
參考文獻

第4章晶圓製造和封裝概述
4．1 引言
4．2 晶圓生産的目標
4．3 晶圓術語
4．4 芯片術語
4．5 晶圓生産的基礎工藝
4．6 薄膜工藝
4．7 晶圓製造實例
4．8 晶圓中測
4．9 集成電路的封裝
4．10 小結
習題
參考文獻

第5章汙染控製
5．1 引言
5．2 汙染源
5．3 淨化間的建設
5．4 淨化間的物質與供給
5．5 淨化間的維護
5．6 晶片錶麵清洗
習題
參考文獻
第6章生産能力和工藝良品率
6．1 引言
6．2 良品率測量點
6．3 纍積晶圓生産良品率
6．4 晶圓生産良品率的製約因素
6．5 封裝和最終測試良品率
6．6 整體工藝良品率
習題
參考文獻

第7章氧化
7．1 引言
7．2 二氧化矽層的用途
7．3 熱氧化機製
7．4 氧化工藝
7．5 氧化後評估
習題
參考文獻

第8章十步圖形化工藝流程――從錶麵
製備到曝光
8．1 引言
8．2 光刻工藝概述
8．3 光刻十步法工藝過程
8．4 基本的光刻膠化學
8．5 光刻膠性能的要素
8．6 光刻膠的物理屬性
8．7 光刻工藝：從錶麵準備到曝光
8．8 錶麵準備
8．9 塗光刻膠（鏇轉式）
8．10 軟烘焙
8．11 對準和曝光
8．12 先進的光刻
習題
參考文獻

第9章十步圖形化工藝流程――從顯影到最終檢驗
9．1 引言
9．2 硬烘焙
9．3 刻蝕
9．4 濕法刻蝕
9．5 乾法刻蝕
9．6 乾法刻蝕中光刻膠的影響
9．7 光刻膠的去除
9．8 去膠的新挑戰
9．9 最終目檢
9．10 掩模版的製作
9．11 小結
習題
參考文獻

第10章下一代光刻技術
10．1 引言
10．2 下一代光刻工藝的挑戰
10．3 其他曝光問題
10．4 其他解決方案及其挑戰
10．5 晶圓錶麵問題
10．6 防反射塗層
10．7 高級光刻膠工藝
10．8 改進刻蝕工藝
10．9 自對準結構
10．10 刻蝕輪廓控製
習題
參考文獻

第11章摻雜
11．1 引言
11．2 擴散的概念
11．3 擴散形成的摻雜區和結
11．4 擴散工藝的步驟
11．5 澱積
11．6 推進氧化
11．7 離子注入簡介
11．8 離子注入的概念
11．9 離子注入係統
11．10 離子注入區域的雜質濃度
11．11 離子注入層的評估
11．12 離子注入的應用
11．13 摻雜前景展望
習題
參考文獻

第12章薄膜澱積
12．1 引言
12．2 化學氣相澱積基礎
12．3 CVD的工藝步驟
12．4 CVD係統分類
12．5 常壓CVD係統
12．6 低壓化學氣相澱積（LPCVD）
12．7 原子層澱積
12．8 氣相外延
12．9 分子束外延
12．10 金屬有機物CVD
12．11 澱積膜
12．12 澱積的半導體膜
12．13 外延矽
12．14 多晶矽和非晶矽澱積
12．15 SOS和SOI
12．16 在矽上生長砷化鎵
12．17 絕緣體和絕緣介質
12．18 導體
習題
參考文獻

第13章金屬化
13．1 引言
13．2 澱積方法
13．3 單層金屬
13．4 多層金屬設計
13．5 導體材料
13．6 金屬塞
13．7 濺射澱積
13．8 電化學鍍膜
13．9 化學機械工藝
13．10 CVD金屬澱積
13．11 金屬薄膜的用途
13．12 真空係統
習題
參考文獻

第14章工藝和器件的評估
14．1 引言
14．2 晶圓的電特性測量
14．3 工藝和器件評估
14．4 物理測試方法
14．5 層厚的測量
14．6 柵氧化層完整性電學測量
14．7 結深
14．8 汙染物和缺陷檢測
14．9 總體錶麵特徵
14．10 汙染認定
14．11 器件電學測量
習題
參考文獻

第15章晶圓製造中的商業因素
15．1 引言
15．2 晶圓製造的成本
15．3 自動化
15．4 工廠層次的自動化
15．5 設備標準
15．6 統計製程控製
15．7 庫存控製
15．8 質量控製和ISO 9000認證
15．9 生産綫組織架構
習題
參考文獻

第16章形成器件和集成電路的
介紹
16．1 引言
16．2 半導體器件的形成
16．3 可替換MOSFET按比例縮小的挑戰
16．4 集成電路的形成
16．5 Bi MOS
16．6 超導體
習題
參考文獻

第17章集成電路的介紹
17．1 引言
17．2 電路基礎
17．3 集成電路的類型
17．4 下一代産品
習題
參考文獻

第18章封裝
18．1 引言
18．2 芯片的特性
18．3 封裝功能和設計
18．4 引綫鍵閤工藝
18．5 凸點或焊球工藝示例
18．6 封裝設計
18．7 封裝類型和技術小結
習題
參考文獻
術語錶