微機電係統集成與封裝技術基礎 pdf epub mobi txt 電子書 下載 2025

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婁文忠，孫運強著 著

圖書標籤:

• MEMS
• 微機電係統
• 集成電路
• 封裝技術
• 傳感器
• 微納技術
• 電子工程
• 材料科學
• 製造工藝
• MEMS設計

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齣版社： 機械工業齣版社

ISBN：9787111209171

商品編碼：29693135205

包裝：平裝

齣版時間：2007-03-01

基本信息

書名:微機電係統集成與封裝技術基礎

定價：29.00元

售價：19.7元,便宜9.3元,摺扣67

作者:婁文忠,孫運強著

齣版社：機械工業齣版社

齣版日期：2007-03-01

ISBN：9787111209171

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版次：1

裝幀：平裝

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編輯推薦

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內容提要

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本書主要介紹微機電係統集成與封裝技術。全書包括三個部分，分彆為：微機電係統集成技術基礎、微機電係統封裝技術基礎、微機電係統集成與封裝的應用。書中係統地敘述瞭微機電係統集成設計與封裝技術的概念、體係結構、典型係統、所用的先進技術以及未來的發展趨勢；書中對近年來國外微機電係統集成與封裝*技術動態加以歸納總結，對相關理論、技術進行深刻的闡述與分析。並以大量、詳實的案例，在完整的微機電係統集成與封裝知識體係下，麵嚮應用，服務社會。
　　本書可供微電子、微電係統等領域專業研究以及機械、物理和材料方麵研究人員參考，亦可作為相關專業高年級本科生、研究生教材。

目錄

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作者介紹

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文摘

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序言

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《先進半導體製造中的關鍵互連與封裝技術》 內容簡介 在摩爾定律趨於極限的今天，半導體行業的創新重心正逐漸從單純的晶體管尺寸縮小轉嚮更加精密的係統級集成和先進的封裝技術。本書深入探討瞭現代半導體製造過程中至關重要的互連和封裝技術，它們是實現高性能、高密度、低功耗和多功能集成電路（IC）的關鍵所在。本書不僅涵蓋瞭傳統和新興的互連和封裝材料、工藝和結構，更著重分析瞭這些技術如何應對未來電子産品對性能、可靠性、成本和體積日益增長的需求。 第一章：半導體互連與封裝技術的發展曆程與未來趨勢 本章首先迴顧瞭半導體互連和封裝技術的發展脈絡，從早期的引綫鍵閤（Wire Bonding）和錶麵貼裝技術（SMT），到後來的倒裝芯片（Flip Chip）和晶圓級封裝（WLP），再到當前蓬勃發展的2.5D/3D集成和扇齣型晶圓級封裝（Fan-Out WLP）。我們將分析每一次技術革新背後的驅動力，例如對更高集成密度、更優電氣性能、更低信號延遲和更強散熱能力的需求。 接著，本章將深入剖析當前半導體産業麵臨的挑戰，包括互連電阻/電容效應的限製、封裝功耗密度急劇上升、熱管理難題、以及新興材料和工藝的引入所帶來的復雜性。在此基礎上，我們將前瞻性地探討未來互連與封裝技術的發展趨勢。重點將放在以下幾個方嚮： 先進互連材料與結構： 銅互連的極限與替代材料（如鈷、鈀、貴金屬閤金）的探索；納米綫、碳納米管等新型互連結構的應用潛力；高密度互連（HDI）的進一步發展。 超越2D的集成： 3D堆疊技術（如TSV，Through-Silicon Via）的工藝優化與成本降低；多芯片模塊（MCM）和係統級封裝（SiP）的演進；異構集成（Heterogeneous Integration）的策略與挑戰。 下一代封裝平颱： 扇齣型晶圓級封裝（FOWLP）的進一步集成能力和應用場景；嵌入式芯片封裝（Embedded Die Packaging）的優勢；可重構互連（Reconfigurable Interconnects）的可能性。 材料創新與可靠性： 新型封裝基闆材料（如有機載闆、陶瓷基闆、柔性基闆）的性能提升；低應力、高導熱封裝材料的研究；應對極端環境（如高低溫、高濕度、高輻射）的封裝解決方案。 智能化與自動化： 封裝過程的自動化與數字化轉型；AI在良率預測、工藝優化和設計決策中的應用。 可持續性與環保： 綠色封裝材料的開發；封裝過程的能耗和環境影響的評估與降低。 第二章：半導體互連技術詳解 本章將詳細闡述支撐現代集成電路高性能的關鍵互連技術。 金屬互連： 銅互連： 詳細介紹銅作為互連材料的優勢（低電阻率、高遷移率）及其在CMOS工藝中的應用。深入分析銅的化學機械拋光（CMP）過程、阻擋層/擴散阻擋層（如TaN/Ta）的材料選擇與工藝控製，以及在不同代工製程中互連綫寬/間距的演進。 替代互連材料： 探討當銅互連麵臨電阻和電容顯著增加的問題時，科研界和産業界正在探索的替代方案。包括： 鈷（Co）互連： 分析鈷在金屬填充、接觸電阻降低方麵的優勢，以及在極小尺寸互連中的應用前景。 其他金屬及其閤金： 如鎳（Ni）、金（Au）等在特定應用（如RF、高可靠性）中的作用。 非金屬互連： 簡要介紹石墨烯、碳納米管等新興材料作為互連導體的潛力，分析其在導電性、熱導性等方麵的優勢，以及當前麵臨的製備和集成挑戰。 接觸與通孔技術： 接觸層（Contact Layer）： 介紹金屬與半導體之間接觸的形成機理，包括歐姆接觸和肖特基接觸。詳細講解用於形成歐姆接觸的材料（如Ti/TiN、W）及其工藝。 垂直互連（Via）： 詳細闡述通孔（Via）的作用，即連接不同層金屬的通道。重點介紹： 介質通孔（Dielectric Via）： 如SiP（Silicon Plug）和WLP（Wafer-Level Package）中的TSV（Through-Silicon Via）和TGV（Through-Glass Via）等垂直互連技術。深入分析TSV的製造流程，包括鑽孔（etching or DRIE）、阻擋/擴散層沉積、金屬填充（電鍍Cu、ALD W等）、絕緣處理和CMP。探討TSV的電學和熱學性能影響，以及其在3D IC中的關鍵作用。 金屬通孔（Metal Via）： 在多層金屬互連結構中，連接相鄰金屬層的垂直通道。分析其材料（通常是銅）、形成工藝（例如，在介質層上刻蝕通孔後填充金屬）。 互連的可靠性問題： 電遷移（Electromigration）： 分析電流密度過高導緻金屬原子遷移，造成互連斷路或短路的現象。討論影響電遷移的因素（材料、溫度、結構）以及提高抗電遷移能力的策略（如加入微量元素、優化結構）。 空洞（Void）形成： 介紹在金屬填充過程中可能齣現的空洞，特彆是在銅電鍍過程中。分析空洞産生的原因及其對互連可靠性的影響。 應力遷移（Stress Migration）： 分析溫度變化或外部應力導緻的金屬內部應力，進而引發金屬遷移和斷路。 第三章：先進封裝技術概覽 本章將係統介紹支撐現代高性能電子設備的關鍵先進封裝技術。 引綫鍵閤（Wire Bonding）的演進： 傳統引綫鍵閤： 介紹金綫（Au）、鋁綫（Al）等材料的鍵閤原理和工藝。 銅綫鍵閤： 分析銅綫鍵閤在成本和導電性上的優勢，及其工藝上的挑戰（氧化、球形鍵閤）。 塑封（Molding）與固化（Curing）： 介紹環氧樹脂（Epoxy）等塑封材料的選擇、工藝參數（溫度、壓力、時間）對封裝性能的影響，以及固化過程中的應力管理。 倒裝芯片（Flip Chip）技術： 凸點（Bumps）技術： 詳細介紹各類凸點形成技術，包括： 锡鉛（Sn-Pb）凸點： 傳統的焊接凸點。 無鉛（Lead-Free）凸點： 如Sn-Ag-Cu（SAC）閤金。 銅柱（Copper Pillar）與焊球（Solder Ball）： 介紹銅柱的作用，即提供更大的應力緩衝和更高的承載能力，以及作為後續焊接焊球的基礎。 再分布層（RDL, Redistribution Layer）： 介紹RDL的作用，即將芯片上的密集I/O引腳重新分布到較大間距的凸點陣列上，以適應基闆的連接需求。分析RDL的材料（Cu/Polyimide）和製造工藝。 倒裝芯片的封裝形式： BGA（Ball Grid Array）： 介紹通過焊球與PCB連接的封裝形式。 LGA（Land Grid Array）： 介紹通過平麵觸點與PCB連接的封裝形式。 晶圓級封裝（WLP, Wafer-Level Packaging）： 核心理念： 在晶圓製造完成後，直接在整個晶圓上進行封裝工藝，無需對晶圓進行切割（dicing），從而實現更高的集成密度和更低的成本。 主要技術類型： 扇齣型晶圓級封裝（FOWLP, Fan-Out Wafer-Level Packaging）： 重點介紹FOWLP的原理，即將芯片置於一個重構模具（re-molding）中，然後在其錶麵形成再分布層（RDL）和金屬焊球/觸點。分析其在異構集成、支持更大的芯片尺寸、更高I/O數量等方麵的優勢。 標準WLP： 如集成扇齣（Integrated Fan-Out, InFO）等。 2.5D/3D集成技術： 2.5D集成： 矽中介層（Silicon Interposer）： 介紹矽中介層在連接多個芯片（如CPU、GPU、HBM）中的作用，利用TSV和精細的互連綫實現高帶寬、低延遲的通信。分析矽中介層的材料、製造工藝及其麵臨的挑戰（成本、散熱、良率）。 有機中介層（Organic Interposer）： 介紹使用高密度印刷電路闆（HDI PCB）作為中介層，在成本和可製造性上的優勢。 3D集成（垂直堆疊）： 直接銅對銅鍵閤（Direct Cu-to-Cu Bonding）： 介紹芯片之間直接通過銅凸點進行鍵閤，實現極高的互連密度和極短的傳輸路徑。分析其工藝要求（錶麵平整度、潔淨度）和麵臨的挑戰。 混閤鍵閤（Hybrid Bonding）： 介紹晶圓之間直接鍵閤，無需金屬凸點，實現更高的集成密度和更優異的電學性能。 TSV在3D集成中的應用： 再次強調TSV在實現芯片層與層之間電氣連接的關鍵作用。 係統級封裝（SiP, System-in-Package）： 定義與優勢： 將多個功能不同的芯片（如處理器、內存、RF模塊、傳感器等）集成到一個封裝內，實現係統的功能集成和小型化。 SiP的實現方式： 多芯片模塊（MCM, Multi-Chip Module）： 采用PCB或陶瓷基闆作為平颱，將裸芯片或預封裝芯片進行組裝。 堆疊封裝（Stacking）： 將多個芯片垂直堆疊，如2.5D/3D集成。 串聯封裝（Shingled Packaging）： 將芯片側嚮排列。 SiP的設計與製造考慮： 功耗管理、熱管理、信號完整性、可靠性等。 第四章：封裝材料與可靠性 本章將深入探討封裝過程中使用的關鍵材料及其對産品可靠性的影響。 封裝基闆材料： 有機基闆（Organic Substrate）： 如BT樹脂、ABF（Ajinomoto Build-up Film）等，廣泛應用於BGA、FCBGA等封裝。分析其材料特性（介電常數、介電損耗、熱膨脹係數、機械強度）及其對信號完整性和熱性能的影響。 陶瓷基闆（Ceramic Substrate）： 如氧化鋁（Al2O3）、氮化鋁（AlN）等，具有優異的導熱性和高可靠性，適用於高溫、高功率應用。 金屬基闆（Metal Substrate）： 如銅、鋁，用於導熱和結構支撐。 柔性基闆（Flexible Substrate）： 如聚酰亞胺（PI），用於柔性電子設備和可穿戴設備。 塑封材料（Encapsulant）： 環氧樹脂（Epoxy Resins）： 主流的塑封材料，分析其填料（如二氧化矽、氧化鋁）、固化劑、助劑等成分對材料性能（硬度、熱膨脹係數、導熱性、阻燃性、吸濕性）的影響。 低應力塑封材料： 針對高密度互連和易碎芯片，開發低應力材料以降低對芯片的機械損傷。 高導熱塑封材料： 應對日益增長的功耗密度，提高散熱效率。 導熱材料（Thermal Interface Materials, TIMs）： TIMs的作用： 填充芯片錶麵與散熱器之間的微觀空隙，提高熱傳導效率。 TIMs的種類： 導熱矽脂、導熱墊片（Thermal Pads）、導熱凝膠（Thermal Gel）、相變材料（Phase Change Materials, PCMs）等。 TIMs的材料特性： 導熱係數、粘度、附著力、耐久性。 可靠性測試與評估： 環境應力測試： 高溫高濕偏置（HHBT）： 評估濕氣和電應力影響。 熱循環（Thermal Cycling, TC）： 模擬溫度變化引起的應力，評估材料界麵和焊點可靠性。 熱衝擊（Thermal Shock, TS）： 快速溫度變化引起的應力。 溫度循環（Temperature Cycling）： 加速壽命測試： 跌落測試（Drop Test）： 評估機械衝擊下的耐久性。 振動測試（Vibration Test）： 模擬工作環境中的振動載荷。 其他測試： 氣密性測試、腐蝕測試、紫外綫照射測試等。 失效模式分析： 芯片開裂、界麵分層、焊點疲勞、互連斷路等。 第五章：新興互連與封裝技術展望 本章將聚焦於當前和未來極具潛力的互連和封裝技術，這些技術有望突破現有瓶頸，推動電子産業的下一輪飛躍。 微機電係統（MEMS）集成與封裝： MEMS器件的特殊封裝需求： 許多MEMS器件（如傳感器、微流控芯片）需要特殊的腔體、密封、以及與外部環境的接口。 MEMS與IC的集成： 探討如何將MEMS傳感器與驅動和處理電路集成在一起，實現係統功能的提升。例如，將MEMS傳感器芯片與ASIC（Application-Specific Integrated Circuit）進行鍵閤或堆疊。 MEMS的封裝材料與工藝： 特殊的玻璃、金屬、陶瓷材料的應用，以及與MEMS器件工作原理相匹配的密封技術。 柔性電子與可穿戴設備封裝： 柔性基闆材料與互連： 探討聚酰亞胺、PET等柔性基闆的應用，以及在柔性基闆上實現高密度、高可靠性的互連技術。 捲對捲（Roll-to-Roll, R2R）製造： 分析R2R技術在降低柔性電子器件製造成本方麵的潛力。 可穿戴設備對封裝的要求： 小型化、輕量化、柔性、耐用性、生物兼容性等。 異構集成（Heterogeneous Integration）的深化： 概念與目標： 將不同工藝、不同功能、不同材料的器件（如CMOS、MEMS、光學器件、功率器件、GaN/SiC等）集成到一個封裝中，以實現超越單體器件性能的整體係統。 異構集成的關鍵技術： 先進的互連技術： 如TSV、混閤鍵閤、銅凸點等。 多芯片模塊（MCM）和係統級封裝（SiP）的演進。 先進的封裝平颱： 如扇齣型封裝、嵌入式封裝等。 挑戰與機遇： 設計復雜性、熱管理、功耗分配、測試與驗證、以及供應鏈協同。 3D打印在封裝領域的應用： 增材製造（Additive Manufacturing）： 探討3D打印技術在製造復雜幾何形狀的封裝組件、定製化散熱器、微流控通道等方麵的應用。 多材料3D打印： 結閤導電、絕緣、導熱等不同材料的打印能力，實現功能集成。 AI與機器學習在封裝設計與製造中的應用： 設計優化： 利用AI進行互連布局、熱設計、應力分析的優化。 工藝控製與良率提升： 利用機器學習模型進行實時工藝參數調整，預測潛在的缺陷，提高生産良率。 失效預測與壽命評估： 通過大數據分析，預測器件的失效概率和剩餘壽命。 本書旨在為從事半導體設計、製造、封裝、材料以及相關領域的工程師、研究人員和學生提供一個全麵、深入的參考。通過對先進互連和封裝技術的詳細闡述，讀者將能夠理解當前電子産品性能提升的根本驅動力，並為未來技術的創新和發展奠定堅實的基礎。

評分☆☆☆☆☆

我發現這本書在微納加工中的關鍵設備原理與操作細節方麵，提供瞭極其寶貴的、近乎於“秘籍”般的信息。對於我們這些在實驗室摸索新工藝的研究人員來說，理解“深反應離子刻蝕（DRIE）的等效刻蝕率與側壁粗糙度之間的權衡”至關重要。本書在這方麵沒有使用抽象的描述，而是通過對比不同刻蝕參數組閤下的SEM截麵圖，直觀地展示瞭工藝窗口的邊界。此外，關於光刻技術的極限與挑戰，特彆是高深寬比結構的曝光與對準精度的探討，也體現瞭作者對前沿製造工藝的深刻洞察。這本書的價值在於，它將學術研究的前沿與工業量産的瓶頸緊密聯係起來，使得讀者能夠預判未來幾年內可能齣現的技術瓶頸，並提前布局解決方案。它提供的知識深度，絕對能讓一名碩士畢業生在麵對復雜集成項目時，少走很多彎路。

評分☆☆☆☆☆

坦白講，剛翻開這本書時，我有點擔心它會陷入純粹的理論堆砌，畢竟“基礎”二字有時意味著內容的淺嘗輒止。然而，這本書在對材料科學在MEMS中的應用這一闆塊的處理上，徹底顛覆瞭我的預期。它不僅僅停留在介紹矽基材料，而是深入探討瞭聚閤物、壓電材料以及新型復閤材料在柔性電子和生物傳感器中的最新進展與挑戰。作者對材料的微觀結構如何影響宏觀電學和機械性能的闡述非常到位，邏輯鏈條清晰而有力。例如，在討論薄膜應力控製時，書中引用瞭多組不同退火溫度下的XRD數據和彎麯測試結果，這種基於實驗數據的分析方法，極大地增強瞭內容的可靠性和說服力。閱讀過程中，我清晰地感覺到，作者不僅僅是在傳授知識，更是在培養讀者“用材料視角思考結構設計”的能力。這本書在封裝過程中的熱膨脹匹配與應力釋放機製方麵的討論，更是將理論與工程實踐完美結閤，是市麵上其他同類書籍難以企及的高度。

評分☆☆☆☆☆

這本書的結構安排極具匠心，它不是綫性的知識灌輸，更像是一張技術路綫圖。最讓我眼前一亮的是，作者將“可靠性工程”和“測試與錶徵”這兩個常常被輕視的環節，提升到瞭與器件設計同等重要的地位。在關於環境可靠性測試的標準與方法這一章節中，書中詳細對比瞭MIL-STD、AEC-Q等不同行業標準對MEMS器件（特彆是壓力傳感器和加速度計）的具體要求和測試流程，這對於想將研究成果産品化的讀者來說，具有極高的實戰價值。而且，書中對於先進的無損檢測技術（如X射綫CT和超聲成像）在封裝缺陷定位上的應用，提供瞭非常具體的案例分析，這些內容在以往的教材中很少能見到如此詳盡的介紹。整體閱讀體驗下來，這本書給人一種強烈的“工業級思維”的熏陶，它教會的不僅僅是“如何做”，更是“如何確保做齣來的東西能穩定可靠地工作”。

評分☆☆☆☆☆

如果用一個詞來形容這本書的風格，我會選擇“係統性”。它成功地將原本分散在材料、機械、電子、化學等多個學科中的MEMS技術知識，整閤到瞭一個統一的“集成與封裝”框架之下。特彆值得稱贊的是，作者對異構集成，特彆是芯片級封裝（CSP）與係統級封裝（WLP）在微納尺度下的區彆與融閤點進行瞭精闢的論述。書中清晰地勾勒齣，當器件尺寸不斷縮小，封裝不再是事後補救的環節，而是與器件功能設計同步發生的內在組成部分。我對書中關於氣密性封裝技術的細緻描述印象深刻，它不僅討論瞭金屬和陶瓷封裝的傳統方法，還重點介紹瞭現場活性鍵閤（FALB）和低溫共燒陶瓷（LTCC）等現代封裝材料的適用性與局限性。這本書為我們構建瞭一個堅實的理論基石，讓我們能夠從更宏觀、更整體的視角去看待微係統技術的復雜性與未來發展方嚮，是一本不可多得的、真正打通瞭理論與工程最後一公裏的專業著作。

評分☆☆☆☆☆

這本《微機電係統集成與封裝技術基礎》的深度和廣度實在令人驚嘆，它像是一本精心策劃的百科全書，但又比傳統的教科書更具實操性和前瞻性。書中對MEMS器件從設計理念到最終實現的全流程進行瞭詳盡的剖析，特彆是關於納米尺度的製造工藝部分，簡直是教科書級彆的講解。我尤其欣賞作者在闡述多物理場耦閤效應時所展現齣的深厚功底，它不僅僅羅列瞭理論公式，更結閤瞭實際案例，清晰地展示瞭電、熱、力等因素在微納結構中是如何相互作用、影響器件性能的。對於初學者來說，可能某些章節的理論推導會略顯吃力，但正是這種嚴謹性，保證瞭內容的高質量和學術價值。書中對先進的鍵閤技術和封裝環境控製的論述，更是點睛之筆，這部分內容直接關係到最終産品的可靠性和壽命，作者沒有絲毫含糊，給齣瞭非常詳細的操作規範和常見失效模式的分析。總而言之，這本書是深入理解現代微納製造核心技術的一把金鑰匙，尤其適閤有一定基礎、渴望精進工藝理解的工程師和研究生。